'저온 주입' 페로브스카이트 나노결정 합성 기술 개발

국내 연구진이 차세대 디스플레이 핵심 소재로 주목받는 페로브스카이트를 저온에서 대량 생산할 수 있는 기술을 개발했습니다.

서울대학교 이태우 교수 연구진은 0℃ 부근의 낮은 온도로 냉각한 리간드 용액에 페로브스카이트 전구체 용액을 주입해 나노결정을 만드는 '저온 주입' 합성 기술을 개발했다고 밝혔습니다.

연구진은 이 기술이 페로브스카이트 나노결정의 합성 속도를 효과적으로 제어해 결함 생성을 억제하고, 100% 발광 효율을 지닌 고품질의 나노결정을 대량으로 생산할 수 있다고 말했습니다.

특히 연구팀이 확보한 원천 특허를 바탕으로 페로브스카이트 디스플레이가 상용화될 경우 산업적 가치가 높고 기술적 독립도 이룰 수 있다고 설명했습니다.

기존의 페로브스카이트 나노결정 합성 방식은 150℃ 이상의 고온 용액에 소재를 주입하는 '핫 인젝션' 합성 기술이 주로 사용됐지만, 화재 위험이 있고 산소와 수분을 차단하기 위한 특수 설비가 필수적이었습니다.

이번 연구성과는 과학 분야 최고 권위의 학술지 '네이처'에 실렸습니다.