"중국, 자체 EUV 개발에 15년 걸릴 것...미 제재가 중 혁신 앞당길 수도"

중국이 최첨단 반도체 생산의 핵심인 극자외선(EUV) 노광장비를 자체 개발하려면 앞으로 15년가량 더 걸릴 것이라는 핵심 부품업체의 진단이 나왔습니다.

네덜란드 ASML에 EUV용 광학 부품을 독점 공급하는 독일 자이스그룹의 반도체 부문 총괄은 외신 인터뷰를 통해 중국의 첨단 장비 기술력이 아직 크게 뒤처져 있다고 평가했습니다.

앞서 글로벌 투자은행 UBS 역시 이번 주 발표한 보고서에서 중국의 자체 EUV 기술 확보가 경쟁국들보다 최소 10년 이상 뒤처져 있다는 분석을 내놓았습니다.

현재 미국은 중국의 첨단 인공지능 기술 확보를 원천 차단하기 위해, 전 세계에서 유일하게 EUV를 생산하는 ASML 장비의 중국 수출을 전면 통제하고 있습니다.

이에 맞서 중국은 막대한 자본을 쏟아부으며 기술 자립을 시도하고 있으며, 최근에는 상하이의 한 기업이 이전 세대인 DUV 노광장비 제조에 나섰다는 현지 보도도 나왔습니다.

다만 자이스 측은 미국의 지속적인 수출 통제 확대가 자사 사업에 악영향을 미칠 뿐만 아니라, 역설적으로 중국 내 반도체 기술 혁신을 앞당기는 기폭제가 될 수 있다고 우려했습니다.

YTN 권영희 (kwonyh@ytn.co.kr)